|
| MOQ: | 1 ユニット |
| 価格: | Negotation |
| standard packaging: | カートンで梱包 |
| payment method: | T/T,ウェスタン・ユニオン |
| Supply Capacity: | 1ヶ月あたりの1000の単位 |
40Khz 散乱式超音波ノズル 原子化コーティング 半導体チップ カルシウムチタナート 太陽電池
記述:
散布ノズルは低圧の空気/ガスを使って均質で広い噴霧パターンを生成し,各ノズルは最大9まで達します.8インチ (25センチメートル) 基板からの距離に応じて. 空気の流れの速度は,製品または基板に原子噴霧の低または高い影響を可能にするように制御できます. 連続で複数のノズルを使用すると,無限の幅を達成できます.散布ノズルの設計は,細いノズルの高い繰り返しの広いパターンに使用されます.
散布型超音波ノズルは,サイクロンコーンスプレーを搭載した超音波原子化ノズルです.超音波原子化ノズル技術を使用します.そして特別な渦流のチャネル設計を通して流体霧の超音波原子化がサイクロン噴霧の形で散らばるように,アトマイザーのスプレーエリアを拡大する超音波ノズルは,垂直または曲がった表面および鋭い縁を持つ他の基板にも噴射することができます.
散乱型超音波ノズルの典型的な用途は半導体チップの光抵抗コーティングで,光抵抗物質が半導体チップに噴射される.散布型超音波ノズルによって放出される霧の回転散乱によりワッファー・プレートだけでなく,ワッファー・マイクロ構造の横壁や角にも均質な光抵抗膜が形成される.薄膜太陽電池のコーティングにも使えますカルシウムチタナート太陽電池コーティング,AR伝送と反射フィルムコーティング,保温フィルムコーティング,超水素性コーティングコーティング,PCBフルックスコーティング,その他のアプリケーション.
パラメーター:
| モデル | FSW-4002-L |
| 名前 | 40Khz 散乱式超音波ノズルの原子化 |
| 頻度 | 40kHz |
| 原子化された粒子のサイズ範囲 ((μm) | 35から48 |
| 噴射幅 (mm) | 20~80 |
| 噴射流量 (ml/min) | 1-10/2-20/3-40 |
| 噴霧の高さ (mm) | 30〜150 |
| 液体の粘度 (cps) | <30 |
| 粒子の大きさ (μm) | <12 |
| 引換圧 (Mpa) | <0.08 |
| 適用する | 表面を完全に噴射するフルックス用 |
利点:
1高性能チタン合金とステンレス鋼で作られ,高度な適応性,耐腐蝕性,圧力,ノイズ,ノズルの磨きや詰め込みがない.原子化した粒子の高均質性.
2材料の節約と環境保護:スプレーの影響は非常に小さいため,液体の噴出は起こらない.これにより,バックスプレーによる原材料の廃棄物や大気汚染を削減する超音波噴霧の材料利用率は,従来の2流体噴霧の4倍以上です.
3. 高制御性:それは正確に原子化流量,低流量連続噴霧を制御することができます,噴霧形は制御し,形 (噴霧操作器を増やす) 簡単です.工業分野に適用できる組み合わせることで,原子化量はあらゆる要求を満たすことができます.
4. 容易な保守:液体は,自重力または低圧ポンプを通じてスプレーヘッドに伝達され,連続または間歇的な原子化を実現します.騒音がない圧力がなく,動く部品もありません. 原子化する際には冷却水は必要ありません. エネルギー消費量は小さく,機器はシンプルで,故障率は低いです.超音波スプレーヘッドは,清掃と毎日メンテナンス無料の機能があります.
40Khz 散乱式超音波ノズル 原子化コーティング 半導体チップ カルシウムチタナート 太陽電池
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| MOQ: | 1 ユニット |
| 価格: | Negotation |
| standard packaging: | カートンで梱包 |
| payment method: | T/T,ウェスタン・ユニオン |
| Supply Capacity: | 1ヶ月あたりの1000の単位 |
40Khz 散乱式超音波ノズル 原子化コーティング 半導体チップ カルシウムチタナート 太陽電池
記述:
散布ノズルは低圧の空気/ガスを使って均質で広い噴霧パターンを生成し,各ノズルは最大9まで達します.8インチ (25センチメートル) 基板からの距離に応じて. 空気の流れの速度は,製品または基板に原子噴霧の低または高い影響を可能にするように制御できます. 連続で複数のノズルを使用すると,無限の幅を達成できます.散布ノズルの設計は,細いノズルの高い繰り返しの広いパターンに使用されます.
散布型超音波ノズルは,サイクロンコーンスプレーを搭載した超音波原子化ノズルです.超音波原子化ノズル技術を使用します.そして特別な渦流のチャネル設計を通して流体霧の超音波原子化がサイクロン噴霧の形で散らばるように,アトマイザーのスプレーエリアを拡大する超音波ノズルは,垂直または曲がった表面および鋭い縁を持つ他の基板にも噴射することができます.
散乱型超音波ノズルの典型的な用途は半導体チップの光抵抗コーティングで,光抵抗物質が半導体チップに噴射される.散布型超音波ノズルによって放出される霧の回転散乱によりワッファー・プレートだけでなく,ワッファー・マイクロ構造の横壁や角にも均質な光抵抗膜が形成される.薄膜太陽電池のコーティングにも使えますカルシウムチタナート太陽電池コーティング,AR伝送と反射フィルムコーティング,保温フィルムコーティング,超水素性コーティングコーティング,PCBフルックスコーティング,その他のアプリケーション.
パラメーター:
| モデル | FSW-4002-L |
| 名前 | 40Khz 散乱式超音波ノズルの原子化 |
| 頻度 | 40kHz |
| 原子化された粒子のサイズ範囲 ((μm) | 35から48 |
| 噴射幅 (mm) | 20~80 |
| 噴射流量 (ml/min) | 1-10/2-20/3-40 |
| 噴霧の高さ (mm) | 30〜150 |
| 液体の粘度 (cps) | <30 |
| 粒子の大きさ (μm) | <12 |
| 引換圧 (Mpa) | <0.08 |
| 適用する | 表面を完全に噴射するフルックス用 |
利点:
1高性能チタン合金とステンレス鋼で作られ,高度な適応性,耐腐蝕性,圧力,ノイズ,ノズルの磨きや詰め込みがない.原子化した粒子の高均質性.
2材料の節約と環境保護:スプレーの影響は非常に小さいため,液体の噴出は起こらない.これにより,バックスプレーによる原材料の廃棄物や大気汚染を削減する超音波噴霧の材料利用率は,従来の2流体噴霧の4倍以上です.
3. 高制御性:それは正確に原子化流量,低流量連続噴霧を制御することができます,噴霧形は制御し,形 (噴霧操作器を増やす) 簡単です.工業分野に適用できる組み合わせることで,原子化量はあらゆる要求を満たすことができます.
4. 容易な保守:液体は,自重力または低圧ポンプを通じてスプレーヘッドに伝達され,連続または間歇的な原子化を実現します.騒音がない圧力がなく,動く部品もありません. 原子化する際には冷却水は必要ありません. エネルギー消費量は小さく,機器はシンプルで,故障率は低いです.超音波スプレーヘッドは,清掃と毎日メンテナンス無料の機能があります.
40Khz 散乱式超音波ノズル 原子化コーティング 半導体チップ カルシウムチタナート 太陽電池
