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生産名: | 30Khz 散乱式超音波ノズルの原子化 | 頻度: | 30kHz |
---|---|---|---|
最大電源: | 50W | 自動化された粒子サイズ範囲: | 15-40μm |
スプレーの流れ: | 0.5から20ml | 液体粘度: | <30cps |
粒子の大きさ: | <12μm | 適用する: | 表面を完全に噴射するフルックス用 |
ハイライト: | 超音波アトマイゼーションスプレー散布ノズル,低電力の散布ノズル,散布式超音波ノズルの原子化 |
半導体光抵抗コーティング用 30Khz 低電源超音波原子化スプレー散布ノズル
記述:
散布ノズルは低圧の空気/ガスを使って均質で広い噴霧パターンを生成し,各ノズルは最大9まで達します.8インチ (25センチメートル) 基板からの距離に応じて. 空気の流れの速度は,製品または基板に原子噴霧の低または高い影響を可能にするように制御できます. 連続で複数のノズルを使用すると,無限の幅を達成できます.散布ノズルの設計は,細いノズルの高い繰り返しの広いパターンに使用されます.
パラメーター:
モデル | FSW-3002-L |
名前 | 30Khz 散乱式超音波ノズルの原子化 |
頻度 | 30KHz |
原子化された粒子のサイズ範囲 ((μm) | 15〜40歳 |
噴射幅 (mm) | 40~80 |
噴射流量 (ml/min) | 0.5-20 |
噴霧の高さ (mm) | 30~80 |
液体の粘度 (cps) | <30 |
粒子の大きさ (μm) | <15 |
引換圧 (Mpa) | <0.05 |
適用する | 半導体チップの光抵抗性コーティングに適している |
超音波噴霧技術には,従来の噴霧技術に対して,下記の利点があります.
1均一性と一貫性:超音波噴霧は,細かく,または均質な噴霧粒子を生成し,対象表面にコーティングを均等に分散させることができます.覆いの均一性と一貫性を達成する一方,従来の噴霧技術では,厚さや噴霧痕が不均一になる可能性があります.
2圧縮性と粘着性:超音波噴射によって生成される噴射粒子は小さく均一であるため,標的表面をよりよく覆い,より密度の高いコーティングを形成することができます.この方法により,コーティングの粘着性と耐久性が向上します.塗料の脱落や剥離のリスクを軽減します
3コーティング厚さの制御:超音波噴霧技術では,噴霧粒子のサイズと噴霧パラメータを調整することで,コーティング厚さの正確な制御を達成できます.この精度は,特定のコーティング厚さを必要とするアプリケーションシナリオに適した超音波噴霧技術を作ります薄膜コーティングや高厚さのコーティングを必要とする領域など
4溶剤蒸発を減らす: 超音波噴霧は通常,低圧で実施され,塗料の溶剤蒸発を減らすのに役立ちます.従来の噴霧技術では,噴霧圧が高くなる場合がある.溶媒の蒸発速度を速め,コーティングの質と性能に影響を与える可能性があります.
5特殊コーティングに適しています:超音波噴射技術は,高粘度液体,高固体含有液体,ナノ粒子 суспенションなど,様々な種類のコーティングに適しています.これは,超音波噴霧技術が特殊コーティングの適用に有利なより高品質のコーティングを可能にします.
涂料の質は噴霧技術だけでなく,塗料の質,表面予備処理,噴霧パラメータの最適化したがって,スプレー技術を選択する際には,複数の要因を包括的に考慮し,特定のアプリケーション要件に応じて評価し選択する必要があります.
半導体光抵抗コーティング用 30Khz 低電源超音波原子化スプレー散布ノズル