|
| MOQ: | 1 ユニット |
| 価格: | Negotation |
| standard packaging: | 木の場合によって詰められる |
| payment method: | T/T,ウェスタン・ユニオン |
| Supply Capacity: | 1ヶ月あたりの1000の単位 |
半導体光耐性超音波リトグラフィーコーティングシステム
記述:
超音波噴霧は,光電図のウエファー加工における光抵抗性コーティングのためのシンプルで経済的で再現可能なプロセスである.FUNSONICの半導体光抵抗超音波リトグラフィーコーティングシステムは 流量率を細かく制御するために 先進的な層化技術を使用します低速スプレー鋳造は,過剰なスプレーを避け,薄くて均質な層を生成するための正確な制御可能なパターンとしてスプレースプレーを定義します.
FUNSONICの半導体耐光超音波リトグラフィーコーティングシステムは より均一なコーティングを埋める利点があります特に高面比の溝やV型溝構造の側壁の上部に沿って遠心回転では,穴の下部に光抵抗が過剰に蓄積されない限り,横壁に沿って均質なコーティングを堆積することはできません.
パラメーター:
| 製品タイプ |
超音波精密スプレーコーティングマシン 実験用デスクトップタイプ FS310 |
インテリジェント超音波精密コーティングマシン デスクトップタイプ FS620 |
| 噴霧ノズルの動作頻度 | 20〜200KHz | 20-200KHz (通常は60100110120Kを使用) |
| ノズルのパワー | 1〜15W | 1〜15W |
| 連続噴射量 最大 | 0.01-50ml/min | 0.01-50ml/min |
| 効果的噴霧幅 | 2〜100mm | 2〜100mm |
| 噴霧の均一性 | ≥95% | ≥95% |
| 溶液変換率 | ≥95% | ≥95% |
| ドライフィルムの厚さ | 20nm〜100μm | 20nm〜100μm |
| 溶液粘度 | ≤30cps | ≤30cps |
| 温度範囲 | 1〜60°C | 1〜60°C |
| 原子化粒子 (平均値) | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される |
| 偏向圧力 最大 | ≤0.10MPA | ≤0.15MPA |
| 入力電圧 | 220V±10%/50-60Hz | 220V±10%/50-60Hz |
| 練習モード | X+Y 2軸完全自動,Z軸手動調整 | XYZ 3軸,独立プログラム可能 |
| 制御モード | マイクロコンピュータカード 7インチタッチスクリーン+ボタン | FUNSONICスプレー制御システム,PLC制御, 13.3インチフルカラータッチスクリーン |
| コントロール内容 | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム |
| 液体供給方法 | 精密注入ポンプ | 精密注入ポンプ |
| 超音波分散システム (オプション) | 50ml,40K,生物学的サンプラー | 20mlまたは50ml,40K,生物学的サンプラー |
| 超音波分散システムの定数電源 | 200W,10A | 100W |
利点:
1表面のコンタクトを均一に覆う.
2優れた均一性を持つ高面比の溝をコーティングすることができます.
3詰め込まないスプレー
4単一マイクロンの薄い層を非常に均一に堆積できる.
5繰り返しの成熟した噴霧プロセス.
半導体光耐性超音波リトグラフィーコーティングシステム
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| MOQ: | 1 ユニット |
| 価格: | Negotation |
| standard packaging: | 木の場合によって詰められる |
| payment method: | T/T,ウェスタン・ユニオン |
| Supply Capacity: | 1ヶ月あたりの1000の単位 |
半導体光耐性超音波リトグラフィーコーティングシステム
記述:
超音波噴霧は,光電図のウエファー加工における光抵抗性コーティングのためのシンプルで経済的で再現可能なプロセスである.FUNSONICの半導体光抵抗超音波リトグラフィーコーティングシステムは 流量率を細かく制御するために 先進的な層化技術を使用します低速スプレー鋳造は,過剰なスプレーを避け,薄くて均質な層を生成するための正確な制御可能なパターンとしてスプレースプレーを定義します.
FUNSONICの半導体耐光超音波リトグラフィーコーティングシステムは より均一なコーティングを埋める利点があります特に高面比の溝やV型溝構造の側壁の上部に沿って遠心回転では,穴の下部に光抵抗が過剰に蓄積されない限り,横壁に沿って均質なコーティングを堆積することはできません.
パラメーター:
| 製品タイプ |
超音波精密スプレーコーティングマシン 実験用デスクトップタイプ FS310 |
インテリジェント超音波精密コーティングマシン デスクトップタイプ FS620 |
| 噴霧ノズルの動作頻度 | 20〜200KHz | 20-200KHz (通常は60100110120Kを使用) |
| ノズルのパワー | 1〜15W | 1〜15W |
| 連続噴射量 最大 | 0.01-50ml/min | 0.01-50ml/min |
| 効果的噴霧幅 | 2〜100mm | 2〜100mm |
| 噴霧の均一性 | ≥95% | ≥95% |
| 溶液変換率 | ≥95% | ≥95% |
| ドライフィルムの厚さ | 20nm〜100μm | 20nm〜100μm |
| 溶液粘度 | ≤30cps | ≤30cps |
| 温度範囲 | 1〜60°C | 1〜60°C |
| 原子化粒子 (平均値) | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される |
| 偏向圧力 最大 | ≤0.10MPA | ≤0.15MPA |
| 入力電圧 | 220V±10%/50-60Hz | 220V±10%/50-60Hz |
| 練習モード | X+Y 2軸完全自動,Z軸手動調整 | XYZ 3軸,独立プログラム可能 |
| 制御モード | マイクロコンピュータカード 7インチタッチスクリーン+ボタン | FUNSONICスプレー制御システム,PLC制御, 13.3インチフルカラータッチスクリーン |
| コントロール内容 | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム |
| 液体供給方法 | 精密注入ポンプ | 精密注入ポンプ |
| 超音波分散システム (オプション) | 50ml,40K,生物学的サンプラー | 20mlまたは50ml,40K,生物学的サンプラー |
| 超音波分散システムの定数電源 | 200W,10A | 100W |
利点:
1表面のコンタクトを均一に覆う.
2優れた均一性を持つ高面比の溝をコーティングすることができます.
3詰め込まないスプレー
4単一マイクロンの薄い層を非常に均一に堆積できる.
5繰り返しの成熟した噴霧プロセス.
半導体光耐性超音波リトグラフィーコーティングシステム
