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生産名: | 超音波精密噴霧機 | 頻度: | 60kHz |
---|---|---|---|
最大電源: | 1〜15W | 連続噴射量 最大: | 20-1200ml/h/pcs,スケーラブル |
効果的噴霧幅: | 2-260mm/pcs,スケーラブル | 噴霧の均一性: | ≥95% |
溶液粘度: | ≤30cps | 入力電圧: | 220V±10%/50-60Hz |
ハイライト: | マイクロ電子半導体用超音波コーティング,マイクロ電子半導体超音波スプレーコーティングマシン |
微電子半導体のためのシリコンカービッドシード結晶薄膜の超音波コーティング
記述:
Micro electronic semiconductor silicon carbide seed crystal thin film ultrasonic coating is an emerging technology that combines the excellent characteristics of silicon carbide with the efficient coating method of ultrasonic spraying.
高硬さ,高熱伝導性,優れた化学的安定性により,シリコンカービードは高温および高電力用途に適しています.マイクロ電子半導体シリコンカービッド種子結晶 薄膜超音波コーティング 薄膜コーティングは効率的な電気および熱伝導性を達成することができます電子機器や光電子機器などに適しています
パラメーター:
製品タイプ |
超音波精密スプレーコーティングマシン 実験用デスクトップタイプ FS310 |
インテリジェント超音波精密コーティングマシン デスクトップタイプ FS620 |
噴霧ノズルの動作頻度 | 20〜200KHz | 20-200KHz (通常は60100110120Kを使用) |
ノズルのパワー | 1〜15W | 1〜15W |
連続噴射量 最大 | 0.01-50ml/min | 0.01-50ml/min |
効果的噴霧幅 | 2〜100mm | 2〜100mm |
噴霧の均一性 | ≥95% | ≥95% |
溶液変換率 | ≥95% | ≥95% |
ドライフィルムの厚さ | 20nm〜100μm | 20nm〜100μm |
溶液粘度 | ≤30cps | ≤30cps |
温度範囲 | 1〜60°C | 1〜60°C |
原子化粒子 (平均値) | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される | 10〜45μm (蒸留水),ノズルの周波数によって決定される |
偏向圧力 最大 | ≤0.10MPA | ≤0.15MPA |
入力電圧 | 220V±10%/50-60Hz | 220V±10%/50-60Hz |
練習モード | X+Y 2軸完全自動,Z軸手動調整 | XYZ 3軸,独立プログラム可能 |
制御モード | マイクロコンピュータカード 7インチタッチスクリーン+ボタン | FUNSONICスプレー制御システム,PLC制御, 13.3インチフルカラータッチスクリーン |
コントロール内容 | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム | 超音波噴射,液体供給,加熱,超音波分散その他のシステム |
液体供給方法 | 精密注入ポンプ | 精密注入ポンプ |
超音波分散システム (オプション) | 50ml,40K,生物学的サンプラー | 20mlまたは50ml,40K,生物学的サンプラー |
超音波分散システムの定数電源 | 200W,10A | 100W |
適用:
1電子機器:電源電子機器では,シリコンカービッドの薄膜が装置の効率と耐熱性を向上させることができます.
2光電子部品:光電池およびLED装置では,シリコンカービッドの薄膜が光電変換効率を向上させることができます.
3耐磨性コーティング:機械部品に耐磨性や耐腐蝕性のある保護を提供します.
微電子半導体のためのシリコンカービッドシード結晶薄膜の超音波コーティング